光电提升仪器大解析,180nm技术,清华突破性能飞跃3000倍

用180nm替代7nm?清华大学突破光电模拟芯片,性能提升3000倍!

“摩尔定律极限”是目前半导体领域最头疼的问题,根据业内专家的推测芯片制程工艺达到2nm后,想要进一步提升很难了,就算能够升级到1nm,所能带来的性能提升也极其有限。

目前市面上一直流传,5nm芯片搭载在手机上使用已经性能过剩,但在AI产业全面布局之后,这样的定义已经完全不适用了,光训练一次AI模型就需要用到上万颗英伟达最顶尖的A100、H100芯片。

因此即便是如今最顶尖的3nm芯片,在未来AI产业布局上也根本不够看,原有的传统芯片制程必须得到创新,而目前市面上的石墨烯芯片、光电子芯片、量子芯片等等,都有可能成为颠覆性的新技术。

而这一次清华大学再度立功了,根据官方的消息,戴琼海院士团队与电子工程系联合攻关,成功提出了“光电模拟芯片”新技术,这是一种全新的计算架构,在算力上达到了普通芯片的3000倍,目前对应的成果已经在《自然》期刊上公布。

光电提升仪器大解析,180nm技术,清华突破性能飞跃3000倍

根据研究团队的简述,一旦实行了“光电融合技术”的商用,在实验室条件下,是可以让180nm工艺的芯片,实现7nm芯片的使用性能和功耗,这是过度的自嗨、还是意味着中国的高端芯片问题要解决了呢?

清华大学完成技术突破

根据台积电提供的数据,5nm晶圆的代工价格高达16000美元,而3nm工艺价格要高出25%,直接突破了2万美元的大关,鉴于手机价格无法进一步上涨,出于成本方面考虑,高通最新的8Gen3芯片依旧沿用了4nm工艺,目前采用3nm工艺的也只有苹果的A17芯片。

显然传统的芯片工艺升级已经遇到了瓶颈,不仅性能、功耗无法有效的提升,反倒在价格上成倍的攀升,消费者自然不可能为此买单,而清华大学提出的“光电模拟芯片”,在成本把控方面做到了极致,整体的制造成本不足传统芯片的十分之一。

相比于传统的芯片,光电模拟芯片超3000倍的性能、且功耗仅有几万分一,单纯从账面数据上来看这绝对是跨世纪的成果,但在普通人眼里却是相当的“梦幻”,如果没有官方数据的佐证,肯定又会被认定为这是国人在“自嗨”。

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但这样的成果公布之后,网上有不少人已经在宣扬:美国的芯片打压不攻自破,中国科技彻底的腾飞了!但事实并非如此,现在去庆祝还是太早了,否认清华大学的研究成果的确很厉害,提升3000倍的性能,此前连想都不敢去想,这也直接颠覆了我们对芯片制造的认知。

不过我们不得不面对一个残酷的现实,这项技术目前还处在实验室阶段,最终能否成功、或者真正落地商用的时间都还是一个未知数,显然目前还处在基础研究阶段,还要不断的测试材料以及结构,完成最终的理论基础验证。

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随后才能进入到第二个阶段,将理论基础知识进行实际验证,确认开发以及应用的方向,并生产出相对应的产品,最终才能步入到面向市场量产,通过市场的反馈进行升级迭代,而目前清华的研究成果勉强突破到了第二阶段,想要最终量产商用还需要很多时间。

有了技术研发方向,打破欧美的芯片封锁是迟早的事,但现阶段还未打破拜登团队的封锁,网上所说的解决芯片问题,显然是存在一定问题的,但我们也要给足科研人员时间,科技突破需要足够的耐心和运气成分,过度的自嗨反而会适得其反。

光电提升仪器大解析,180nm技术,清华突破性能飞跃3000倍

在华为麒麟9000s芯片回归后,国内高端层面的芯片需求,在一定程度上得到了缓解,根据路透社的消息确认,已经达到了7nm工艺水准,虽然和国际上顶尖的技术相差了几代,但庆幸的是这是完全国产化的成果。

华为接连突破芯片、系统,解决了国内“缺芯少魂”的困局,这也树立起了自主研发的信心,目前越来越多的中企启动了技术自研,这将有效帮助华为搭建国产供应链,完成全面的国产替代计划,伴随着各大高校研究所的加入,这一天指日可待。

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单纯依靠华为一家企业并不能完全解决困境,但却起到了很好的带头作用,中企只有团结齐头并进,才能够最终打破欧美的技术封锁,哪怕再小的技术都要自己拥有,对此你们是怎么看的?

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